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Influence of interface oxidation on the electrical contact properties of C-Cu contact pairs
编号：438 访问权限：仅限参会人 更新：2022-09-11 20:48:14 浏览：114次 张贴报告

报告开始：暂无开始时间（Asia/Shanghai）

报告时间：暂无持续时间

所在会场：[暂无会议] [暂无会议段]

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关键词
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报告人
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稿件作者
Qingsong Wang southwest Jiaotong University
Zhijiang He southwest Jiaotong University
Guoqiang Gao southwest Jiaotong University
Hong Wang southwest Jiaotong University
Ziran Ni southwest Jiaotong University
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重要日期

  • 会议日期

    09月25日

    2022

    至

    09月29日

    2022

  • 08月15日 2022

    提前注册日期

  • 09月10日 2022

    报告提交截止日期

  • 11月10日 2022

    注册截止日期

  • 11月30日 2022

    初稿截稿日期

  • 11月30日 2022

    终稿截稿日期

主办单位
IEEE DEIS
承办单位
Chongqing University
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