目前，可逆摩擦调节已成为科学家研究的热点，光敏材料的柔性调节结构和理论促进了这一领域的快速发展。同时，光作为一种外部刺激，在时空控制和远程触发方面具有巨大的潜力和优势。在这项工作中，我们展示了两个可光异构化的有机分子层，四羧酸偶氮苯(NN4A)和二羧酸偶氮苯(NN2A)物质分子，选择在高定向热解石墨(HOPG)表面构建分子模板网络，来研究各种光调节下自组装层的排列构型层的摩擦行为。首先利用扫描隧道显微镜(STM)对制备好的自组装层的形貌进行表征，然后利用原子力显微镜(AFM)对模板网络的纳米摩擦学性能进行测试。在光调控下，它们的摩擦系数分别变化了约0.6倍和2.3倍。我们还采用密度泛函理论(DFT)方法计算了自组装系统在光调节下的分子结合作用力强度与摩擦特性的关系。因此，光刺激的使用在调节纳米界面的摩擦行为方面发挥了重要作用，有望为进一步的光调控各项摩擦行为研究奠定基础，为未来制造先进的智能表面器件奠定基础。

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