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表面粗糙度对磁控溅射金属靶刻蚀区表面形貌及溅射性能的影响
磁控溅射;靶材;表面粗糙度;表面形貌;溅射性能
全文录用
杨文灏 / 太原理工大学;宁波工程学院
鲍明东 / 宁波工程学院
研究表面粗糙度对磁控溅射金属靶刻蚀区表面形貌及其溅射性能的影响规律。结果表明,不同粗糙度的试样严重影响其溅射后的表面形貌,在溅射刻蚀最深区域呈现凹坑和凸起连续分布的形貌,而在划痕不完全刻蚀区和划痕区出现了溅射蚀坑和不完全刻蚀的晶粒所形成的“亮点”;由于晶粒取向不同,晶粒表面溅射刻蚀后而形成了不同高度和宽度的台阶状的形貌;表面初始粗糙度越大的试样溅射10h后,其溅射刻蚀最深区域的表面粗糙度也越大,溅射产额反而越小。因此可通过降低靶材表面粗糙度来增加薄膜沉积速率和溅射过程的稳定性。



 
重要日期
  • 会议日期

    11月13日

    2020

    11月16日

    2020

  • 10月31日 2020

    提前注册日期

  • 11月05日 2020

    初稿截稿日期

  • 11月16日 2020

    注册截止日期

主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
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