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132 / 2020-09-18 15:45:01
量子点膜用阻隔膜制备技术研究进展
量子点膜； 高阻隔膜 ；有机/无机多层膜；卷绕PECVD
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量子点膜用高阻隔膜产品是量子显示封装技术的关键产品，高阻隔膜的制备工艺决定着阻隔膜产品性能特性。本文通过分析量子点膜用高阻隔膜产品性能指标，总结热蒸发、化学气相沉积、原子层沉积等制备柔性高阻隔薄膜的方法、原理、特点及应用，展望量子点膜用阻隔膜产品的发展前景。研究表明量子点膜用高阻隔薄膜制备工艺趋向于有机/无机多层结构的超高阻复合薄膜，采用卷绕PECVD技术沉积无机层，湿法涂布工艺沉积有机层是快速、高效、批量化制备量子点膜用高阻隔封装薄膜的发展趋势。
重要日期
-
会议日期
11月13日
2020
至11月16日
2020
-
10月31日 2020
提前注册日期
-
11月05日 2020
初稿截稿日期
-
11月16日 2020
注册截止日期
主办单位
中国机械工程学会表面工程分会
承办单位
广东省新材料研究所
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
北京大学深圳研究生院
现代材料表面工程技术国家工程实验室
联系方式
- 段金弟
- 20******@sina.com
- 139********
历届会议
-
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2016年10月22日 中国 成都市
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